描述：JK-CH600190-XRD光學冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式，提供-190~600℃（選型）或RT~1000℃（選型）溫度范圍內的氣氛/真空測試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究，適配現有各種X-射線衍射儀（布魯克、賽默飛、理學等）。

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品牌	其他品牌	產地類別	國產
應用領域	環(huán)保,能源,電子/電池,電氣,綜合

JK-XRD原位冷熱臺是一種安裝在X-射線衍射儀上研究樣品變溫X-射線衍射的附件。產品采用液氮致冷、電阻加熱的方式，提供-190~600℃（選型）或RT~1000℃（選型）溫度范圍內的氣氛/真空測試環(huán)境。適合于粉末、片材樣品在變溫下進行X-射線結構研究，適配現有各種X-射線衍射儀（布魯克、賽默飛、理學等）。

產品需要與溫度控制器、致冷控制器（選配）配套使用，配套的上位機溫控軟件方便進行溫度設置及采集，提供的Labview Vis方便客戶進行定制化編程。

光學冷熱臺產品特點：

溫度范圍-190~600℃（選型）/RT~1000℃（選型）

溫度穩(wěn)定性±0.1℃（＜600℃）±1℃（＞600℃）

衍射角0～164°

X射線視窗Kapton膜

支持反射/透射模式

密腔室設計，可升級真空腔室（10^(-3) mBar）

可更換上蓋，作為普通冷熱臺使用

可調節(jié)高度，滿足不同厚度樣品測試更換上蓋，可用作光學冷熱臺，實現一機多用

詳細參數一覽表：

XRD原位冷熱臺		JK-CH600190XV	JK-H1200XV
溫控模塊	冷熱方式	液氮致冷，電阻加熱	電阻加熱
	溫控范圍	-190～600℃ *	RT～1200℃ *
	溫度穩(wěn)定性	±0.1℃（＜600℃），±1℃（＞600℃）*
	溫度分辨率	0.1℃
	升降溫速率	0~30℃/min（可定點 / 程序段控溫）
	溫控方式	PID
	溫度傳感器	PT100	熱電偶
光學特性	光路	反射 *
	X射線透射膜	Kapton膜
結構特性	樣品臺尺寸	23×23mm *	12x12mm *
	樣品臺材質	銀質 *	陶瓷 *
	外形尺寸	100×100×73mm *
	腔室	真空
	外殼冷卻	循環(huán)水
基本配置	XRD原位冷熱臺x1、溫度控制器x1、致冷控制器x1（低溫配置）、液氮罐x1（低溫配置）、定制支架x1、溫控軟件x1、循環(huán)水系統(tǒng)x1、連接管路若干
選配	電腦主機/定制溫控軟件/定制光學蓋板
備注	以上均為默認參數 * 為可定制項
其他可選型號	CH400-100-X（-100~400℃）

產品應用：

搭配理學X射線衍射儀.jpg

搭配賽默飛X射線衍射儀.jpg

搭配布魯克X射線衍射儀.jpg

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